当連結会計年度は、21,539百万円の設備投資を行いました。 真空機器事業につきましては、半導体及び電子部品製造装置、FPD製造装置それぞれの事業の評価用機械装置や研究開発用機械装置等に、19,580百万円の投資を行いました。 真空応用事業につきましては、材料関連の生産用設備等に、1,958百万円の投資を行いました。 また、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。