当社の経営方針、経営環境及び対処すべき課題等は以下のとおりであります。

　文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。なお、当社は単一セグメントです。

（１）経営方針

　ＩＴ社会は多様な産業に支えられていますが、日本が最も活躍している産業は、電子デバイスに必要とされる機能

　性材料を供給しているファインケミカル分野です。当社の主要製品である貴金属めっき薬品は、その機能性材料の一種であることから、当社はケミストリ（化学）を基礎に科学的に理論武装した独創的な製品により、社会課題と向き合い、多様な視点と独自の発想力を発揮し、エレクトロニクス業界を牽引するファインケミカル企業を目指します。

（２）経営戦略等

　当社は少数精鋭・ファブレス型・開発型企業として、貴金属めっきに特化して事業を発展させてきました。製造プラント等の生産設備は持っておらず、新規製品開発のためのマーケティング、それを実行するための技術開発及び営業活動に力を入れ、いち早く商品化を実現することで、市場のシェアを獲得してまいりました。設立50年を過ぎた今、コロナ禍のもとＤＸ化等により急拡大する電子部品業界において、既存市場以外においても当社の技術で解決できる社会課題があることが、より鮮明になってきました。

　そこで当社は、自身の強みを堅持しつつ、新規事業領域や既存市場でのニーズをとらえて社会課題の解決につなげるべく、新たに中長期ビジョン「ＲＤＤ2030※」を策定し、2030年までの期間を３つのフェーズに分け、既存市場はもとより、新たな市場で評価される“日本高純度化学”へと進化していくことを目指します。

※ＲＤＤ2030= Redox-innovation through Discovery & Development toward 2030

企業理念とビジョン

中期経営計画のロードマップ

　中期経営計画の詳細は当社ホームページに開示しております。

サステナビリティ基本方針

　「めっき」とは、電子部品の接続部位の錆び（酸化）を防ぎ、電子回路の電気信号の流れを円滑に保ち最高の性能を発揮させるのに欠かせない技術です。

　当社は自社独自技術を以て、化学物質の“配合の妙”を貴金属めっき薬品のレシピに昇華することで付加価値を創出しています。当社製品をめっき工程に用いれば、必要な箇所に最低限の厚みの貴金属めっき皮膜を形成することができ、稀少資源である貴金属の使用量を大きく節約し経済合理性を高めることができます。当社の設立以来の事業そのものが、省貴金属性能でサステナブルな社会の達成を指向しています。

　貴金属めっき技術は最先端の電子機器の内部で接点・接合に使用されており、当社は、貴金属に特化しためっき薬品の開発・製造・販売を行うファブレスで知識集約型・開発型の企業として、ファインケミカル分野とエレクトロニクス業界との橋渡しの役目を担ってきました。

　パソコン・携帯電話・デジカメがスマートフォンへと集約したような技術革新とともに、小型化・高性能化・低消費電力化など電子部品の要求特性のハードルは上がり続けています。また低炭素社会への変革や社会インフラのデジタル化が加速すれば、自動車の電装化・電子化が急速に進化しEV化したように、電子部品の接点・接合点の数も爆発的に増大するため、省貴金属技術の出番が今後ますます拡大し、当社は更に広範な事業分野において地球環境への貢献を果たすことが出来ます。

　上記のような事業活動を通じて、当社は、エレクトロニクス業界への貢献を通じて、サステナブルな社会の実現のため、また社会的責任を果たすため、サステナビリティ基本方針を以下の通り定めております。

＜サステナビリティ基本方針＞

・当社は貴金属や希少鉱物を使用する製造業であり、多くの化学物質を取り扱う事業の性質上、地球環境への配慮が不可欠です。資源を有効活用し、持続可能な社会づくりに貢献することを前提として事業活動を行い、環境負荷を継続的に低減していきます。

・当社は「化学の好奇心でエレクトロニクスに役立てる」の企業理念のもと、地球環境リスクやライフスタイルの変革、エネルギーシフト等の社会課題と向き合い、ステークホルダーとの連携を深め、多様な視点と独創性を発揮しながらファインケミカルとエレクトロニクスの架け橋となることを目指します。

・当社は、サステナビリティを巡る重要課題（マテリアリティ）が、事業のリスクの減少のみならず収益機会にもつながる重要な経営課題として認識し、これらの課題に真摯に取り組みます。当社は、当社事業を通じた社会の持続可能な発展への貢献と共に持続的な成長と企業価値向上を目指します。

（３）経営環境

　当社が主力基盤とする半導体・電子部品市場は、グローバル規模での発展を維持しており、当社の販売先であるメーカーの多くは、この広大な市場に適応するために、新技術を生み出す開発力を競い合っています。

　当社を取り巻くリスクについては、次項３〔事業等のリスク〕に記載の通りですが、パンデミックや気候変動等の「環境的リスク」、貿易制限や紛争・戦争といった「地政学的リスク」、重要原材料・重要部品の不足等の「経済的リスク」、輸送インフラ不全等の「技術的リスク」といった様々なリスクが見られる不透明・不確実な足元の経営環境の中でも、新型ウイルスによるライフスタイルの変革、脱炭素/省資源に伴うエネルギーシフト、データ通信量・容量の急激な増加等の「変わらぬメガトレンド」が存在し、当社が貢献できる社会課題は多数あると認識しており、当社の独創性、知的財産を活かした事業機会はますます広がっていると考えています。

（４）対処すべき課題と対策

①営業力の強化

　益々加速するデジタルトランスフォーメーションの取り組みや積極的なグリーン投資、及び自動車のＥＶ化/電装化の進展に伴い、これらを支えるデータセンターや高速大容量通信、生成ＡＩやＡＩ搭載機器、パワーデバイス等の需要拡大から、半導体をはじめ、半導体搭載用基板、プリント基板、コネクター等におけるハイエンド電子部品の需要が高まっており、これらの実現に必要不可欠となる高性能かつ高品質なめっき薬品が求められております。

　これらのニーズに対して、タイムリーな製品提供による国内外の市場シェア拡大が当社の成長戦略の要と考え、国内外のトップメーカーをターゲットにマーケティング活動を進め、省資源プロセス等の環境対応型製品の提案，表面処理薬品メーカー／装置メーカーとの協業によるトータルプロセスでの性能向上の提案等を積極的に行うとともに、学会発表、技術コンソーシアムへの参画、展示会出展等の広報活動により更なる認知度向上を図り、新規顧客の獲得と売上・利益の向上を目指します。

　また、顧客と当社の間で技術情報や生産状況を共有できるデータベースの準備を進めており、国内，海外を問わずソリューション提案等の充実した顧客サポートを提供できる体制を構築することで顧客との連携強化を図ってまいります。

②技術開発力の強化

　当社の競争相手は、貴金属めっき薬品業界だけでなく卑金属めっき薬品業界も含みます。また、グローバル化が進んだ昨今では海外のローカルメーカーも台頭しつつあり、技術開発競争は一層厳しさを増しております。このような状況の中、貴金属めっき分野では顧客要望に対しタイムリーな改良に対応できるプロセス提案力及び車載向けや産業機械向け等の新用途開拓に向けた技術開発力の向上が不可欠となります。なかでもニッケル不使用プロセスをはじめとした次世代最終表面処理プロセスの実現では、めっき薬品だけでなく、前・後処理、装置を含めたプロセス全体での性能向上も果たしていかなければなりません。また貴金属／卑金属にこだわらず、業界として技術的に未完成なテーマを厳選して完成に向けた開発を推進していくことが重要と考えます。

　さらに当社は、めっきで培った酸化還元（Ｒｅｄｏｘ）の技術を活かし、既存の事業領域だけでなく新しい事業領域の創出を目指しており、中長期ビジョンＲＤＤ2030のもと、電池材料開発を推進中です。従来のめっきだけに留まらない柔軟な思考力と技術開発力が必要となります。

　サステナビリティを巡っては、当社は貴金属や希少鉱物を使用する製造業であり、多くの化学物質を取り扱う事業の性質上、地球環境への配慮が不可欠です。環境負荷低減につながる製品開発、めっき工程におけるエネルギー使用量削減といった環境にやさしい製品づくりが重要な課題であると認識しております。

　このような状況の中、当社の数倍の技術陣容を有する競合薬品メーカーに対抗するためには、ユニークな発想を持ち視野の広い技術陣の育成が必要となります。能動型自律人材の採用と育成により、技術陣のレベルアップを実現し、開発力の強化を図ってまいります。同時に、当社単独では困難な技術開発やトータルソリューション力の強化を効率的に実施していくため、最適な外部連携及び協業を図ってまいります。

（５）目標の達成状況を判断するための経営指標

　スマートフォンやパソコンなどの民生向け、及びサーバー／データセンター向けのめっき薬品については緩やかな需要回復に留まったほか、産業機械向けの需要が低迷したことにより、当社の2024年３月期のＲＯＥは3.9％となり、前期比0.2ポイント悪化しております。詳細につきましては、「第一部〔企業情報〕第１〔企業の概況〕〔主要な経営指標等の推移〕自己資本利益率」をご参照ください。中長期のＲＯＥ目標10％の達成に向けて、収益性の向上、資産の更なる効率化に取り組んでいく所存であります。

　また、24年３月期期末配当から５％を下限とする自己資本配当率（ＤＯＥ）を適用したことに伴い、目標指標を従来の株主資本利益率から自己資本利益率に変更し、統一しております。