当社のサステナビリティに関する考え方及び取り組みは、次のとおりであります。

　なお、文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。

(1）ガバナンス

　気候変動対策をはじめとするサステナビリティに関する全社的な活動を推進することを目的に、社長を委員長とし、取締役や関連部門長を委員とするサステナビリティ委員会を設置しております。同委員会における決定事項その他重要な事項は、取締役会に報告しております。

(2）戦略

　当社は、ＩＥＡ(国際エネルギー機関)やＩＰＣＣ(気候変動に関する政府間パネル)が発行する報告書を参考に想定した1.5℃及び４℃シナリオに基づいて、当社事業における気候変動に伴うリスク及び機会を特定・評価し、事業活動に反映しております。

気候変動による事業リスクと対応策

①  気候変動に伴う脱炭素社会への移行リスク

・炭素税の導入によるコスト増リスク(半導体事業部：中期)

　当該リスクに対しては、省エネ設備の導入をはじめとする省エネ活動の更なる推進、再生可能エネルギー電力の利用等により対応してまいります。

②  気候変動に伴う物理的リスク

・大雨の頻発による材料メーカーの工場浸水や土砂災害による供給停止リスク(半導体事業部：短期)

　当該リスクに対しては、社内在庫の確保、原材料調達先の多様化等により対応してまいります。

・無降水日の増加による工業用水の給水制限リスク(半導体事業部：中期)

　当該リスクに対しては、工業用水使用量の削減、排水の再利用の拡充等により対応してまいります。

　なお、短期に分類したものは直近から２年以内の発生を想定し、中期に分類したものは２年から５年以内の発生を想定しております。

気候変動による事業機会

　脱炭素社会の進展に伴い、省エネ関連設備、ＨＶ・ＥＶ車への切替え加速、データセンター向けのサーバー関連施設など、半導体需要の更なる高まりにより次に掲げるビジネス機会の拡大を見込んでおります。

・シリコンウエハー需要の増加(半導体事業部：短期)

・パワーデバイス関連装置等の需要の増加(産商事業部・エンジニアリング事業部：短期)

　なお、短期に分類したものは直近から２年以内の発生を想定しております。

　また、当社における人材の多様性の確保を含む人材の育成に関する方針及び社内環境整備に関する方針は、以下のとおりであります。

人材育成方針

　当社は、多様な人材の確保を、事業を拡大していくうえでの重要な戦略の一つとして位置付けており、新卒採用をはじめ、中途採用にも積極的に取り組んでおります。特に、女性従業員の新卒採用比率の向上に取り組んでおり、中長期的な視点で女性従業員の割合を増やすことで、現状で11％程度となっている女性管理職比率を増やすことを目標としております。なお中途採用者においては、現状で20％超の管理職比率となっており、この水準を維持すべく努めてまいります。

　また、育児休業の取得推進や短時間勤務制度の拡充など、女性がより活躍できる職場環境の整備を進めるとともに、働き方・活躍の場の多様性を拡げるべくデジタル人材の育成等に取り組んでおり、今後も多様な中核人材の確保・育成を進めてまいります。

社内環境整備方針

　当社では、個々人が能力を向上・発揮させ、もって生産性向上へと繋げるべく、能力開発と職場環境向上のための諸施策を推進しております。能力開発としては、プログラミング研修・ＩＴツールの積極導入などによるデジタル人材育成、個別カリキュラムの語学研修などによるグローバル人材育成など、多様性のある能力開発体制を構築しております。また、コミュニケーションをより緊密にし、従業員一人ひとりが能力を十二分に発揮できる職場環境づくりとして、コミュニケーション力・指導力を強化するための研修、心と身体の健康を維持するための各種セミナーや面談などを実施しております。

(3）リスク管理

　気候変動に伴うリスクについては、事業部ごとに上記「(2)戦略」の方法で特定及び評価しております。また、気候変動に伴うリスクを含めた当社の企業活動上のリスクは、各部門が定期的にリスクを抽出し、発生確率・影響度等の面から評価・把握を行い、その結果に基づいてリスク管理を実施しております。リスク管理の実効性についてはリスク管理委員会で検証し、それらの取組状況を取締役会へ報告しております。

(4）指標及び目標

　当社は、温室効果ガス(ＣＯ２)排出量(原単位)の削減を進めており、2025年度に1991年度比で温室効果ガスの生産量原単位を45％にすることを目標としております。

　また、当社では、上記「(2)戦略」において記載した人材の多様性の確保を含む人材の育成に関する方針及び社内環境整備に関する方針について、次の指標を用いております。当該指標に関する目標及び実績は、次のとおりであります。

(注)  直近３事業年度の採用実績により算出しております。