(1) 研究開発活動の体制

　当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。

　また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。

(2) 研究開発活動の方針

　当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ、モビリティ及び半導体・電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。

(3）研究開発活動における当事業年度の主要課題

　当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。

（ディスプレイ）

①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発

（モビリティ）

①低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立

②低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発

③面発熱ヒーターの応用製品の開発

④特定波長帯での広角高反射ミラーの開発

（半導体・電子部品）

①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発

②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発

③紫外光透過透明導電膜の開発

④放熱シートの開発

⑤弾性波デバイス用音響多層膜の開発

⑥MEMSデバイス用圧電薄膜の開発

⑦パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発

（その他）

①プラズマプロセス技術の開発

②高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発

③高滑落性機能材料の開発

④脱着構造体の開発

⑤異形材料へのパターニング加工技術の開発

⑥赤外光透過透明導電膜の開発

　なお、当事業年度の研究開発費の総額は286百万円であります。