当社グループ（当社及び連結子会社）は、現有事業分野の研究では国際競争力を強化し、技術・品質・コストでトップを目指すこと、新規事業分野では独自技術を追求し、早期事業化を目指すことを研究開発の基本方針として、計画的、効率的かつ迅速な研究開発を行っています。特に新規分野では、エネルギー関連、半導体関連材料、光・通信関連、ヘルスケアー関連、ＳＤＧｓ及びＣＮに貢献する素材・材料の研究開発を推進しています。

　当社グループの主な研究拠点は、当社の６研究所即ち塩ビ・高分子材料研究所（茨城県）、シリコーン電子材料技術研究所（群馬県）、精密機能材料研究所（群馬県）、合成技術研究所（新潟県）、新機能材料技術研究所（新潟県）および磁性材料研究所（福井県）、ならびに信越ポリマー（株）の研究開発センター（埼玉県）、信越半導体（株）の半導体磯部研究所（群馬県）と半導体白河研究所（福島県）、ドイツのＳＥタイローズ社などです。

（１）生活環境基盤材料事業

　塩化ビニルに関する研究は塩ビ・高分子材料研究所で行っています。同研究所は、米国、欧州にも展開する塩化ビニル事業での世界の研究センターとしての役割を担っています。

（２）電子材料事業

　半導体シリコンに関する研究は信越半導体（株）の２つの研究所で実施され、シリコンウエハーの生産技術の向上、更なる品質の向上、デバイスの微細化進展に対応する最先端の技術開発に取り組んでいます。また、デバイスの更なる低消費電力、高速化に対応する薄膜ＳＯＩウエハー及びＦＺウエハーなど将来有望視される次世代向け技術開発にも取り組んでいます。化合物半導体では、超高輝度４元系（AlInGaP）の赤色ＬＥＤ用エピタキシャルウエハー及びチップの製品化において高い評価を得ており、更なる高輝度化、高信頼性、多色化等の高機能を目指した新製品の開発を進めています。また、一般用ＬＥＤ照明の色調改善へも注力していきます。

　電子産業用有機材料、５Ｇ関連材料はシリコーン電子材料技術研究所で、電子産業用希土類磁石は磁性材料研究所で研究が行われています。また、半導体製造プロセスで使用されるＫｒＦ、ＡｒＦエキシマ用およびＥＵＶ用フォトレジストは新機能材料技術研究所で開発されました。フォトレジストは、デバイスの微細化に対応するため、ＥＵＶレジストや多層材料の性能改善が継続されており、３nm世代は既に量産へ移行しています。現在は、２nm以細のＥＵＶ用プロセス材料を中心に開発を強化しています。同じく半導体製造プロセスで使用されるマスクブランクスも新機能材料技術研究所で開発しており、ＥＵＶ用ブランクスも量産に入りました。合成石英製品のうち、光ファイバー用プリフォームは精密機能材料研究所、半導体用マスク基板や液晶用大型マスク基板は合成技術研究所が担当しています。光ファイバー用プリフォームでは、世界トップレベルの品質を維持向上すべく、光通信分野での積極的な研究開発を進めています。レア・アース、一般用希土類磁石は磁性材料研究所で研究を実施しています。希土類磁石は、環境に優しいハイブリッドカーや風力発電のモーター用として採用され、需要の伸びが期待されます。また、液状フッ素ゴムの開発はシリコーン電子材料技術研究所で行われており、自動車や電子部品、事務機での需要が伸びています。

（３）機能材料事業

　シリコーンに関する研究は、シリコーン電子材料技術研究所が海外も含めた総合的な機能を担い、一部合成技術研究所でも研究を実施しています。セルロース誘導体に関する研究は合成技術研究所及びドイツのＳＥタイローズ社で行っています。

（４）加工・商事・技術サービス事業

　信越ポリマー（株）では、塩化ビニル、シリコーンなどの加工技術の開発を行っています。
 
  当連結会計年度における当社グループ全体の研究開発費は65,785百万円です。このなかには、複数事業部門に関する研究および現有事業に関連を持たない研究も多数含まれていることから、セグメント別の研究開発費は記載していません。